|
||||
|
||||
|
||||
|
精實新聞 2013-10-18 09:20:29 記者 羅毓嘉 報導
半導體設備大廠應用材料(Applied Materials,AMAT)宣佈推出一組以金屬氧化物電晶體生產的全新技術系統，可用於生產包括4K2K電視面板在內所需的薄膜電晶體(TFT)。應用材料指出，該款系統符合今日消費者對螢幕性能、清晰度、色彩和明亮度的更高規格需求，可生產高解析度顯示器所需的更小、反應更快的薄膜電晶體。應用材料指出，新的PVD和PECVD系統的材料工程能力，為未來量產以金屬氧化物為基礎的顯示器，提供最佳化、具成本效益的解決方案。該生產技術平台主要可導入大尺寸、超高解析度(UHD)液晶顯示和有機發光二極體(OLED)顯示器的生產，不僅大幅提升應材在金屬氧化物(MO)薄膜和技術的領導地位。
金屬氧化物型薄膜電晶體為可製造低功率、高解析度的智慧型手機、平板電腦及有機發光二極體電視(OLED TV)之先進技術。未來4K2K超高解析度電視機預計也將採用金屬氧化物薄膜電晶體技術。應用材料的PVD和CVD系統均具備均勻度和微塵粒子控制技術，有助客戶提供高良率量產的全新顯示器。
應用材料公司資深副總裁Ali Salehpour指出，應用材料的PVD和PECVD系統，能協助客戶轉換既有的金屬氧化物材料技術，加速顯示器產業的技術藍圖演進，同時符合客戶對均勻度、微塵粒子控制和穩定度挑戰的嚴格要求。
應材指出，新的PVD系統可提昇均勻度、同質性和低缺陷的金屬氧化物反應層沉積(例如氧化銦鎵鋅IGZO)，以及金屬導線和像素電極特性。應材說明，當薄膜電晶體愈來愈小，而基板愈來愈大時，均勻度和微塵粒子對良率就會產生更大的影響力；均勻的IGZO PiVot沉積膜可使薄膜電晶體達到高可靠度，是顯示器高品質的重要因素，也是大小尺寸OLED使用金屬氧化物技術背板的關鍵所在。
另一方面，應用材料的新PECVD系統則提供領先市場的二氧化矽(SiO2)製程，可降低製程的氫含量、並為金屬氧化物電晶體沉積絕緣層介面，藉此增進電晶體的長期穩定性並提升螢幕最佳化的性能。
