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被動元件龍頭廠國巨（2327）昨（5）日在新竹地方法院對同業光頡提出侵權訴訟，並提出6億元損害賠償金額，後續也將在美、英等國對光頡提出求償。

光頡強調，目前雖尚未收到國巨的侵權訴訟文件，但該公司已於年報上載明所採用的製程為曝光顯影與蝕刻製程，並非國巨所指侵權的非光蝕刻製程，過去也曾審視相關產品與製程專利，確認未侵害其專利。

國巨昨天公告，已向新竹地方法院對被動元件晶片電阻廠光頡提出侵權訴訟，主張光頡產銷的薄膜電阻產品AR0805及其他以非光蝕刻製程生產的薄膜電阻系列產品，涉及侵害其專利權，並導致受到高達新台幣12億元的損害。

國巨指出，光頡侵害的專利為台灣發明專利第194596號，是國巨在2000年提出申請，並於2004年獲准的專利，任何以國巨擁有專利的非光蝕刻製程所生產製造的薄膜電阻產品，基本上均違反其專利。

國巨認為，依目前掌握的證據，光頡疑似以直接挖角該公司技術及經營團隊的方式，不法取得國巨關於生產原料、生產方法、生產流程、機器設備、產線安排等細節，以進行對國巨專利及製程技術的侵害。

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